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张家港正规派瑞林涂层多少钱 真诚推荐「上海派正纳米科技供应」
发布时间:2020/01/15

傅立叶红外光谱分析

采用德国Bruker,EQUINOX 55型傅立叶红外吸收光谱仪对制备的派瑞林Parylene F薄膜进行红外光谱分析。扫描范围为4000-500cm-1  ,扫描次数为32次。

X射线光电子能谱仪分析(XPS)

采用Micro lab MKII型多功能电子能谱仪测量,X射线光源为Mg Ka(hv=1253. 6eV),发射电压和电流分别为14kV和 20mA,本底真空度为1X10-7Pa,结合能测试范围为0-1200eV。

采用NETZSCH STA 409C/CD型热重分析仪对薄膜进行测试,Ar气保护,升温速率10.00K/min,升温区间为20-500℃。 张家港正规派瑞林涂层多少钱

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20世纪60年代美国联合碳化物公司推出了Parylene派瑞林系列新型高分子敷型涂层材料,由于其优异的阻隔性能在防潮、防霉、防盐雾的三防涂层材料领域得到广泛应用。Parylene N 、 C和D均为氯代的聚合物,氟代Parylene是该系列聚合物的新一代衍生物,包括苯环取代和亚甲基取代两类, 氟原子的引入能够较好地改善薄膜的电学性能和热稳定性。氟代Parylene系列衍生物的研究主要集中在单体环二体的合成方法及薄膜的表而特性研究,有关薄膜制备方法的报道较少,曾有采用液态前驱体进行薄膜制备的文献报道。建邺区直销派瑞林涂层哪家强

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Parylene派瑞林 F薄膜的介电性能测试

采用HP4291A阻抗分析仪在10-100MHz频率下扫描测试,记录下与其有关的数据,根据测试结果计算试样的介电常数。

结果和讨论

Parylene派瑞林 F的成膜原理

Parylene派瑞林 F薄膜的制备需在专用的真空涂覆设备上进行,图1为Parylene派瑞林 F薄膜制备设备示意图,该设备主要由升华炉、裂解炉、沉积腔室、冷阱和真空系统几部分组成。原料在升华炉内加热升华,裂解炉内裂解成活性单体自由基,沉积腔室内沉积成膜。

 Parylene F薄膜的制备

Parylene F环二体原料为白色粉末状固体,纯度≥95%。采用PDS2010涂层炉进行薄膜制备,升华温度为170℃,裂解温度为690℃,沉积腔室本底真空10mT,沉积压力为32mT,以石英玻璃板为基体进行薄膜制备。将制备的薄膜从石英玻璃板上剥离下来,储备待用。

Parylene F薄膜形貌表征

采用日本精工SII仪器株式会社SPA300HV-多功能可控环境扫描探针显微镜(AFM)和荷兰FEI公司的Sirion-200型场发射扫描电子显微镜(SEM)对Parylene F薄膜的表而形貌进行表征。

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派瑞林不仅绝缘防锈性能非常的好而且生物相容性也很好,它已通过论证,满足美国药典生物医用材料VI类的标准,被列为是一种可以在体内长期植入使用的生物医用材料。随着生物医用电子科学的不断进步和发展,在国外除了心脏起搏器用派瑞林进行可靠绝缘防护外,脑电极、植入式传感器、血液分析传感器和高频手术刀等微型电子医疗器械,也都有使用派瑞林。派瑞林对医疗器械有很大帮助和用途,比如,针灸针,血管支架,封堵器,医用导管等等。浦东新区专用派瑞林涂层推荐厂家

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化学真空气相沉积制备Parylene F薄膜的过程中,基体温度、基体表而状态、升华温度、裂解温度、沉积室压力等因素对膜性能和质量都有一定影响。沉积室本底压力高杂质气体含量高,自由基容易失去活性,形成短链聚合物的堆积;升华温度过高会增加气体进入沉积腔室的压力差,使得薄膜沉积速率过快成膜质量差;裂解温度(过高会造成环二体原料的过裂解,过低则会导致环二体裂解不完全)也会导致薄膜质量的下降。据此经过大量试验,确定了薄膜的制备工艺条件为*升华温度170℃,裂解温度690℃,沉积腔室本底真空10mT,沉积压力32mT。张家港正规派瑞林涂层多少钱

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企业:上海派正纳米科技有限公司
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